メカニカルシールフラッシングプランとは
A メカニカルシール フラッシングプランは、清潔で適合性のある液体を シール室 メカニカルシールの。このシステムの目的は、シール室内を清潔で安定した環境に保つことで、最適なシール性能と長寿命を確保することです。
メカニカルシールのフラッシングプランは、プロセス流体が直接接触するのに適さないポンプアプリケーションでよく使用されます。 シール面 研磨粒子、高温、または不適合性などの要因により シール材.
メカニカルシールフラッシングプランの仕組み
一般的なメカニカル シールのフラッシング プランでは、一連のパイプ、バルブ、および継手を通じて、きれいなフラッシュ流体がシール チャンバーに導入されます。 フラッシュ 流体は通常、清浄液タンクや工場の給水設備などの外部供給源から供給されます。フラッシュ流体はフラッシュ入口ポートからシールチャンバーに入り、フラッシュ出口ポートから排出されます。これにより、シール面全体に清浄な流体が連続的に流れます。
フラッシュ流体の流量と圧力は、シールチャンバー内の最適な状態を維持するために厳密に調整されます。流量調整には、流量制御オリフィスまたはスロットルバルブが使用されることが多く、圧力制御バルブは、所望の圧力を維持します。 シール内の圧力 チャンバー。場合によっては、フラッシュ流体の温度を調節するために熱交換器がフラッシングシステムに組み入れられることもあります。
メカニカルシールの目的は何ですか？
フラッシュ プランの主な目的は、温度、圧力、汚染物質などの要素を調整して、シール周辺の環境を制御することです。
適切に設計されたシールフラッシング計画は、次のことに役立ちます。
- シール面間の摩擦によって発生する熱を除去する
- シール面を潤滑し、摩耗を最小限に抑えます
- シール室内の固形物や沈殿物の蓄積を防ぐ
- シール材の安定した流体環境を維持する
シールのフラッシングを頻繁に行う要因
高濃度の粒子状物質または研磨剤
シールのフラッシングを頻繁に行う主な要因の一つは、プロセス流体中に高濃度の微粒子や研磨材が存在することです。これらの汚染物質はシール室に入り込み、シール面の急速な摩耗を引き起こし、漏れの増加や早期の故障につながります。 シール不良.
粒子状物質および研磨材の一般的な発生源には次のようなものがあります。
- プロセス流体中の浮遊物質
- 配管や機器からの腐食生成物
- 温度や圧力の変化による溶解固体の結晶化
- キャビテーションによるポンプ部品の侵食
フラッシュ液の圧力、流量、または温度が正しくない
フラッシュ流体の圧力が不十分だと、プロセス流体がシール室に入り込み、汚染やシール面の損傷につながる可能性があります。一方、フラッシュ流体の圧力が高すぎると、過度の漏れやシール面の損傷につながる可能性があります。 シール部品理想的なフラッシュ流体圧力は、プロセス流体の浸入を防ぎながらフラッシュ流体の消費を最小限に抑えるために、シールチャンバー圧力よりわずかに高いレベルに維持する必要があります。
フラッシュ流体の流量が不十分だと、放熱性が悪くなり、シールチャンバー内に汚染物質が蓄積する可能性があります。その結果、シール面の摩耗が進み、早期に故障が発生する可能性があります。逆に、フラッシュ流体の流量が多すぎると、乱流が発生し、シール部品が侵食される可能性があります。
フラッシュ流体の温度が適切でないと、シール性能に悪影響を与える可能性があります。フラッシュ流体の温度が低すぎると、シールチャンバー内でプロセス蒸気が凝縮し、汚染や腐食につながる可能性があります。フラッシュ流体の温度が高すぎると、シール部品の熱変形やシール材料の劣化の加速を引き起こす可能性があります。理想的なフラッシュ流体の温度は、シールメーカーが指定する許容範囲、通常は50～150℃（10～65°F）に維持する必要があります。
シャフトのずれまたは過度の振動
シャフトのミスアライメントや過度の振動は、シール部品にストレスと摩耗を引き起こし、シールのフラッシングを頻繁に引き起こす機械的な問題です。回転機器のアライメントやバランスが適切でない場合、不均一な負荷が発生し、 シール間の接触 摩耗や漏れが加速します。
よくある質問（FAQ）
メカニカルシールのクエンチとフラッシュの違いは何ですか？
A メカニカルシールクエンチとメカニカルシールフラッシュ どちらもシールチャンバーにクリーンな流体を導入する方法ですが、目的が異なり、構成も異なります。
メカニカルシール 急冷する 大気とプロセス流体の間に蒸気バリアを形成するように設計されています。クエンチシステムでは、清浄な流体（通常は窒素や蒸気などのガス）がシール面の大気側にあるシールチャンバーに導入されます。これによりシールチャンバー内に正圧が生成され、大気中の汚染物質の侵入を防ぎ、プロセス流体の蒸気の漏洩を最小限に抑えます。
メカニカルシールのフラッシュは、シール面全体に清浄で適合性のある液体を連続的に供給するように設計されています。フラッシュ流体はシール面のプロセス側からシールチャンバーに導入され、大気側から排出されます。これにより、シールチャンバーは継続的にパージされます。フラッシュシステムの主な目的は、シールチャンバー内の清浄で安定した環境を維持し、シールの故障につながる汚染物質や熱の蓄積を防ぐことです。
メカニカルシールのフラッシング圧力は？
一般的に、フラッシュ圧力はシールチャンバー圧力よりわずかに高いレベルに維持する必要があります。典型的なフラッシュ圧力は、シールチャンバー圧力より10～15psi（0.7～1.0bar）高いレベルです。
メカニカルシールのフラッシュに必要な水の量
メカニカルシールのフラッシュ流量の一般的な範囲は、シールシャフト径0.5インチあたり2.0～1.9 gpm（7.6～2 lpm）です。例えば、シャフト径が50インチ（XNUMX mm）のシールでは、 フラッシュ流量 1～4 gpm（3.8～15.1 lpm）です。
