펌프 냉각 씰 시스템: 포괄적인 개요

펌프 냉각 씰 시스템은 이러한 과제에 대한 강력한 솔루션을 제공합니다. 이 포괄적인 개요에서는 냉각 방식을 기반으로 이러한 시스템의 구성 요소, 용도 및 유형을 자세히 살펴보고, 펌프 성능과 신뢰성을 최적화하는 데 필요한 통찰력을 제공합니다.

펌프 냉각 씰 시스템이란?

펌프 냉각 씰 시스템은 많은 펌핑 시스템의 필수 구성 요소이며, 특히 고온, 고압 또는 유해 물질을 다루는 산업용 분야에서 중요합니다.

펌프 냉각 씰 시스템의 핵심은 다음으로 구성됩니다. 씰 챔버 그것을 둘러싼 기계적 밀봉이 챔버는 일반적으로 물이나 물-글리콜 혼합물과 같은 냉각 유체로 채워져 있으며, 이 유체는 씰 주위를 순환합니다. 이 유체는 마찰로 인해 발생하는 열을 흡수하고 발산하는 역할을 합니다. 물개 얼굴따라서 씰 손상이나 고장으로 이어질 수 있는 과도한 온도 상승을 방지합니다.

펌프 냉각 씰 시스템의 목적

1. 씰과 샤프트 냉각: 기계적 씰의 회전 및 고정 구성 요소 사이에 발생하는 마찰은 열을 생성합니다. 냉각 씰 시스템은 씰 면과 샤프트에서 열을 지속적으로 제거하여 최적의 작동 온도를 유지합니다.
2. 씰 윤활: 씰 시스템에 의해 순환되는 냉각 유체는 윤활제 역할을 하여 씰 면 사이에 얇은 필름을 형성하여 직접 접촉을 방지하고 마모를 최소화합니다.
3. 불순물을 씻어내다: 일부 응용 분야에서는 펌핑된 유체에 씰 면에 축적되어 연마 마모나 막힘을 일으킬 수 있는 고체, 결정 또는 기타 오염 물질이 포함될 수 있습니다. 냉각 씰 시스템은 이러한 불순물을 씻어내는 깨끗한 유체의 지속적인 흐름을 제공하여 씰 면을 깨끗하고 유해한 침전물이 없도록 유지합니다.

펌프 냉각 씰 시스템의 구성 요소

1. 기계적 씰: 냉각 씰 시스템의 핵심은 기계적 씰 자체입니다. 기계적 씰은 샤프트에 부착된 회전 씰 링과 씰 하우징에 장착된 고정 씰 링, 이 두 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 씰 표면은 정밀하게 겹쳐져 있습니다 그리고 눌러서 단단히 밀봉되도록 광택을 냈습니다.
2. 씰 챔버: 씰 챔버는 냉각 유체가 순환하는 기계적 씰을 둘러싼 공간입니다. 냉각 매체의 흐름을 포함하고 방향을 지정하여 적절한 열 발산 및 윤활을 보장하도록 설계되었습니다. 씰 챔버는 또한 씰 면을 지나는 모든 누출을 수집하는 지점 역할을 합니다.
3. 냉각 유체 라인: 냉각 씰 시스템에는 냉각 유체를 씰 챔버로 운반하고 씰 챔버에서 빼내는 파이프, 호스 또는 튜빙 네트워크가 포함됩니다. 이러한 라인은 압력 강하와 난류를 최소화하면서 적절한 흐름과 압력을 제공하도록 크기가 조정되고 경로가 지정됩니다.
4. 열교환기(옵션): 어떤 경우에는 냉각 유체를 적절한 온도로 유지하기 위해 씰에서 제거된 열을 소산해야 할 수도 있습니다. 쉘 앤 튜브 또는 플레이트 유형과 같은 열교환기를 통합할 수 있습니다. 냉각 시스템 순환 유체로부터 2차 냉각수 또는 대기로 열을 전달합니다.

냉각방식에 따라

외부 플러시

에서 외부 플러시 냉각 시스템에서는 외부 공급원으로부터 깨끗하고 차가운 유체가 씰 챔버로 유입됩니다. 플러싱 유체는 펌프 배출구, 별도의 펌핑 시스템 또는 가압 저장고에서 공급될 수 있습니다. 플러시 유량은 원하는 유량과 압력을 유지하기 위해 제어 밸브, 오리피스 또는 유량계로 조절됩니다.

외부 플러시 시스템은 펌핑된 유체가 더럽거나 연마성이 있거나 결정화되기 쉬운 경우에 일반적으로 사용됩니다.

끄다

ㅏ 끄다 냉각 시스템은 소량의 저압 불활성 유체를 씰 챔버의 대기 쪽으로 주입하는 것을 포함합니다. 질소 가스나 깨끗한 물과 같은 냉각 유체는 오염 물질의 유입을 막고 씰 표면의 열을 흡수하는 장벽을 형성합니다.

담금 시스템은 종종 이중 씰과 함께 사용되는데, 이때 담금 유체는 1차 씰과 2차 씰 사이에 주입됩니다.

폐쇄 루프 시스템

폐쇄 루프 냉각 시스템에서 냉각 유체는 씰 챔버와 열교환기를 통해 지속적으로 순환됩니다. 씰에서 생성된 열은 냉각 유체로 전달되고, 그런 다음 열교환기를 통과하여 열을 2차 냉각수 또는 대기로 발산합니다. 냉각된 유체는 씰 챔버로 돌아와 루프를 완성합니다.

폐쇄 루프 시스템은 씰에 안정적이고 통제된 환경을 제공하며 고온이나 중요한 응용 분야에 적합합니다.